熱噴涂技術(shù)所行層的涂層是由許多薄層，重疊，基本層狀顆粒組成。當(dāng)材料被引入噴槍中時(shí)，粒子會(huì)將熱能向高速氣體退回并熔化成液滴，液滴從高速氣體中接收動(dòng)能并向目標(biāo)移動(dòng)，在那里它們像一個(gè)劈劈一樣撞擊表面。與目標(biāo)表面接觸時(shí)，液滴轉(zhuǎn)爐熱傳器通過(guò)傳導(dǎo)到基板并回復(fù)到固體，這就是碳化鎢噴涂的原理，當(dāng)他們冷卻，經(jīng)過(guò)淬火后的碳化鎢涂層可達(dá)到和超音速噴涂一樣的效果。
超音速噴涂碳化鎢難點(diǎn)
超音速噴涂碳化鎢加工過(guò)程的難點(diǎn)是熱噴涂涂層的結(jié)構(gòu)趨于多孔。與普通的高速超音速火焰噴涂孔隙率小于2%不一樣，而由碳化鎢噴涂涂層特點(diǎn)引起的孔隙率預(yù)計(jì)在5～30%～461范圍內(nèi)，火焰噴涂涂層的孔隙率可能超過(guò)I5%。131孔隙率的大小取決于噴涂的熔化狀態(tài)，ED顆粒顆粒的熔化狀態(tài)在撞擊導(dǎo)致鍵合結(jié)構(gòu)的能力上發(fā)生變形。171在評(píng)估介質(zhì)擊穿時(shí)，孔隙率在絕緣層能夠占據(jù)的電壓量中起主要作用。如果涂層暴露于潮濕環(huán)境中，水分會(huì)積聚在結(jié)構(gòu)空隙內(nèi)，從而導(dǎo)致較低的擊穿電壓。在碳化鎢噴涂加工過(guò)程中，可以防止IIS情況的發(fā)生，然后密封包裝。第二個(gè)考慮是不能改變的事實(shí)是空隙含有空氣，而空氣的擊穿電壓比絕緣母體低得多。
碳化鎢噴涂工藝的低溫標(biāo)準(zhǔn)
碳化鎢噴涂工藝低溫限制了熱噴涂的早期熱噴涂加工，因?yàn)樗鼈兪怯裳趸鹧婊螂娀‘a(chǎn)生的。熔點(diǎn)為2700°C以上的材料不能噴涂，試圖延長(zhǎng)熱源的溫度范圍導(dǎo)致等離子噴涂的發(fā)展。等離子體是由分子、原子、離子、電子和光量組成的高度電離狀態(tài)，18.9J等離子弧炬開(kāi)始膨脹約1958。等離子炬具有TN型的類型，它們由電等離子體燃燒的電極之間的排列決定，所以非轉(zhuǎn)移電弧是在陰極內(nèi)的陰極和正陽(yáng)極之間發(fā)生電弧燒灼的電弧，的轉(zhuǎn)移弧10%是當(dāng)正極被傳導(dǎo)到外部的時(shí)候。
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